Библиотека РГРТУ

Информация о ресурсе

Название
Физико-химические основы технологических процессов микро- и наноэлектроники. Ч.1
Авторы
Авачев А.П., Воробьева Ю.В., Мишустин В.Г., Фомин П.А.
Тип ресурса
Методические указания
Предметная област
Электроника. Радиотехника
Подкатегория
Технология строительно-монтажных работ
Год
2011
УДК
621.38.049.77(021)
Шифр
621.38.049.77(021)
Анотация
Содержат сведения по изучению основ физико-химических процессов в технологии микро- и наноэлектроники в части методов нанесения (эпитаксия, магнетронное напыление), модифицирования (ионная имплантация) и удаления (электрохимическое травление) вещества
Ключевые слова
МИКРОЭЛЕКТРОНИКА, ИНТЕГРАЛЬНЫЕ СХЕМЫ, ФИЗИЧЕСКАЯ ХИМИЯ, ЭПИТАКСИЯ, ИМПЛАНТАЦИЯ ИОННАЯ, РАСПЫЛЕНИЕ МАГНЕТРОННОЕ, МИКРОСКОПИЯ СКАНИРУЮЩАЯ ЗОНДОВАЯ, МЕТОДИЧЕСКИЕ УКАЗАНИЯ, РГРТУ, УЧЕБНИКИ
Файл
965.pdf