Информация о ресурсе

Название

Физико-химические основы технологических процессов микро- и наноэлектроники. Ч.2

Авторы

Авачев А.П., Вековищев К.С., Воробьев Ю.В., Воробьева Ю.В.

Тип ресурса

Методические указания

Предметная област

Электроника. Радиотехника

Подкатегория

Технология строительно-монтажных работ

Год

2013

УДК

621.38.049.77.0

Шифр

621.38

Анотация

Содержат сведения по изучению основ физико-химических процессов в технологии микро- и наноэлектроники в части методов окисления и модифицирования (ионная имплантация и диффузия)

Ключевые слова

МИКРОЭЛЕКТРОНИКА, ИМПЛАНТАЦИЯ ИОННАЯ, ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ, ДИФФУЗИЯ, ТЕРМИЧЕСКОЕ ОКИСЛЕНИЕ КРЕМНИЯ, ЭКСПЕРИМЕНТ ВИРТУАЛЬНЫЙ, МЕТОДИЧЕСКИЕ УКАЗАНИЯ, РГРТУ, УЧЕБНИКИ

Файл

608.pdf